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功能材料

稀土抛光材料

      稀土抛光材料研究?#39029;?#31435;于2009年,主要结合国家发展需要和行业发展情况,以稀土基高端抛光粉体和抛光液的研制及产业化为目标,研制用于光学镜头、蓝宝石加工、硬盘盘基片、半导体和集成电路等领域的专用高端抛光材?#31232;?#26412;研究室以材料的表面平坦化为目标,紧跟市场发展步伐,开发具有自主知识产权的稀土抛光材料(抛光粉/液); 抛光材料研究室积极申报和承担各级科研计划项目,同时与生产企业开?#26500;?#27867;的合作,目前已与生产企业建成60吨/年的粉体中试生产线一条。
随着液晶显示技术的发展,苹果、三星和华为等国内外通讯巨头公司正在将3D玻璃逐渐取代平面?#21069;?#29627;璃,光学玻璃用稀土抛光液和集成电路用稀土抛光液?#26412;?#22686;加;本研究?#19994;?#30740;究领域如下:
     (1)小粒径、窄分布高端铈基抛光粉体的开发:开发D50在0.1μm、0.2μm、0.5μm、0.8μm和1.0μm等不同型号的精细抛光粉体,在光学和液晶显示领域广泛应用,为下一步抛光液的开发提供技术支撑。
     (2)光学用稀土抛光液的开发:开发D50为0.8μm的高切削率抛光液。
     (3)半导体晶圆用抛光液的开发:开发D50为0.1μm~0.2μm的高切削率抛光液。
     (4)集成电路用稀土抛光液的开发:开发D50为0.08μm的高?#21496;?#23494;抛光液。

研究领域

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